制备阴图型平版印刷版的方法

摘要：

本发明公开一种制备阴图型平版印刷版的方法，所述方法包括：将阴图型平版印刷版原版曝光于红外线激光，所述阴图型平版印刷版原版至少具有亲水性载体和在所述亲水性载体上的可聚合记录层，所述可聚合记录层包含(A)红外线吸收剂、(B)鎓盐、(C)具有氨基甲酸酯键和多个烯属不饱和键的可聚合化合物和(D)聚氨酯粘合剂；以及，使用显影剂使所述原版显影，所述显影剂具有11.5至12.8的pH值并且包含碱性硅酸盐和阴离子表面活性剂，所述碱性硅酸盐的SiO₂/M₂O摩尔比为0.75至4.0，其中M表示碱金属或铵基。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810165862.4

申请日期：2008-09-25

公开/公告号：CN101398622

公开/公告日：2009-04-01

主分类号：G03F7/027(2006.01)I

申请/专利权人:富士胶片株式会社

发明/设计人:中村贵之

主申请人地址:日本国东京都

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:陈 平

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种制备阴图型平版印刷版的方法，所述方法包括：将阴图型平版印刷版原版曝光于红外线激光，所述阴图型平版印刷版原版至少具有亲水性载体和在所述亲水性载体上的可聚合记录层，所述可聚合记录层包含(A)红外线吸收剂、(B)鎓盐、(C)具有氨基甲酸酯键和多个烯属不饱和键的可聚合化合物和(D)聚氨酯粘合剂，以及使用显影剂使所述原版显影，所述显影剂具有11.5至12.8的pH值并且包含碱性硅酸盐和阴离子表面活性剂，所述碱性硅酸盐的SiO2/M2O摩尔比为0.75至4.0，其中M表示碱金属或铵基。