光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法

摘要：

本发明涉及光致产酸剂、包括其的化学增幅抗蚀剂组合物及相关方法。由式1或式2表示的光致产酸剂，其中R₁、R₂和R₃各自独立地为C1-C10烷基，X为与S⁺形成环的C3-C20脂环烃基团，并且该脂环烃基团中的至少一个CH₂可被选自S、O、NH、羰基和R₅-S⁺A^-中的至少一种代替，其中R₅为C1-C10烷基，且A^-为平衡离子。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810165695.3

申请日期：2008-09-24

公开/公告号：CN101398624

公开/公告日：2009-04-01

主分类号：G03F7/028(2006.01)I

申请/专利权人:三星电子株式会社

发明/设计人:姜 律;金学元;金然柱;崔成云;金贤友;罗惠燮;金京泽

主申请人地址:韩国京畿道

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:宋 莉

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1. 由式1或式2表示的光致产酸剂：(式1)(式2)其中：R1、R2和R3各自独立地为C1-C10烷基，X为与S+形成环的C3-C20脂环烃基团，并且该脂环烃基团中的至少一个CH2可被选自S、O、NH、羰基和R5-S+A-的至少一种代替，其中R5为C1-C10烷基，和A-为平衡离子。