一种用于光刻机的浸没流场稳定装置
本发明公开了一种用于光刻机的浸没流场稳定装置。浸没流场稳定装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置，所述的浸没流场稳定装置由管路连接体、主体结构、自适应滑块组组成。当衬底高速运动牵拉液体，导致缝隙流场发生波动时，自适应滑块组能实时调整位置以改变内隔离腔，外隔离腔，注液腔和回收腔的流道大小，降低冲击强度；内外隔离腔的液体将实时补偿流场的波动，自动对缝隙流场进行缓冲及补偿，吸收衬底牵拉形成的液力冲击，抑制并控制流场的不稳定性；注液腔和回收腔的流道大小也将在衬底高速运动过程中实时改变，在缝隙流场的波动冲击下，维持注液腔和回收腔的流量及压力特性稳定，维持注液及回收过程的稳定性及可靠性。
发明专利
CN200810164177.X
2008-12-29
CN101477310
2009-07-08
G03F7/20(2006.01)I
浙江大学%上海微电子装备有限公司
傅 新;陈 颖;王利军;阮晓东;李小平
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
杭州求是专利事务所有限公司
林怀禹
浙江;33
1. 一种用于光刻机的浸没流场稳定装置，在投影透镜组(1)和待曝光的衬底(3)之间设置的流场稳定装置(2)；其特征在于：所述的流场稳定装置(2)，由管路连接体(2A)，主体结构(2B)，自适应滑块组(2C)，滑块组通道(2D)组成；其中：1)管路连接体(2A)：由中心向外依次均开有四个等分分布的内隔离腔连通大气通孔(4B)、注液口(5B)、回收口(6B)和外隔离腔连通大气通孔(7B)；2)主体结构(2B)：由中心向外四个依次对称开有矩形柱状腔体，分别为内隔离腔(4A)、注液腔(5A)、回收腔(6A)和外隔离腔(7A)，四个腔体垂直向上，分别连通管路连接体(2A)的内隔离腔连通大气通孔(4B)、注液口(5B)，回收口(6B)和外隔离腔连通大气通孔(7B)；内隔离腔(4A)和外隔离腔(7A)槽的截面从上向下为大槽、小槽和大槽构成，在内隔离腔(4A)和外隔离腔(7A)小槽之间，平行于衬底(3)开有四组滑块组通道(2D)；3)自适应滑块组(2C)：每纽由内向外自适应滑块组(2C)由内滑块和外滑块组成，与滑块组通道(2D)采用间隙配合；外滑块为截面为平行四边形的棱柱，外滑块外侧面与外隔离腔(7A)外壁面用弹簧连接；内滑块为截面为平行四边形的棱柱，该组棱柱在底面和顶面之间开有一矩形空腔，空腔槽宽与注液腔(5A)槽宽相等，内滑块的内侧面与内隔离腔(4A)内壁面用弹簧连接。