一种用于光刻机的浸没自适应气体密封装置
本发明公开了一种用于光刻机的浸没自适应气体密封装置。浸没自适应气体密封装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置，所述的浸没自适应气体密封装置由内构件，中构件，外构件和形变件组组成。在衬底高速运动对液体产生牵拉作用的过程中，缝隙流场的边界形态会发生相应变化。采用自适应密封结构，可根据衬底运动方向及速度大小实时调整密封气体通道口径大小，使不同位置所用密封气体流量发生相应变化，从而抑制密封边界不同位置由于密封气体压力不足导致的液体泄漏，及密封气体压力过大导致的气泡卷吸，实现自适应密封功能，增强了气密封的可靠性及稳定性。
发明专利
CN200810164176.5
2008-12-29
CN101452218
2009-06-10
G03F7/20(2006.01)I
浙江大学%上海微电子装备有限公司
傅 新;王利军;陈 晖;龚国芳;李小平
310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号
杭州求是专利事务所有限公司
林怀禹
浙江;33
1. 一种用于光刻机的浸没自适应气体密封装置，在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的浸没自适应气体密封装置(2)；其特征在于所述的浸没自适应气体密封装置(2)，由内构件(2A)、中构件(2B)、外构件(2C)和形变件组(2D)组成；其中：1)内构件(2A)：内构件(2A)下表面开有6～8个内构件底部张力环形槽(6)，每个内构件底部张力环形槽(6)顶部均开有环形通孔(7)；2)形变件组(2D)：形变件组(2D)为成环状分布的四个相同的独立的形变件构成，每个形变件下部均开有与内构件底部张力环形槽(6)相同个数的凸槽，整个形变件组(2D)下部的凸槽分别嵌在环形通孔(7)中，环形通孔(7)的上表面与形变件组(2D)凸槽底部紧贴；3)中构件(2B)：中构件(2B)为一环状体，中构件(2B)的内壁面和内构件(2A)的外壁面和形变件组(2D)的上表面，共同构成回气通道(5)；4)外构件(2C)：外构件(2C)为一环状体，外构件顶部由中心向外依次均开有四个等分分布的注气通孔(9)和回气通孔(10)；外构件(2C)的内壁面和中构件(2B)的外壁面，共同构成注气通道(4)；注气通道(4)与外构件(2C)底面角度为10度～30度。