光刻设备和清洁光刻设备的方法

摘要：

本发明描述了一种浸没光刻设备以及用于清洁光刻设备的方法，该光刻设备的一个入口设置成提供清洁流体到位于衬底台上的对象物体，例如衬底，和衬底台之间的空间上。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810161075.2

申请日期：2008-09-26

公开/公告号：CN101398632

公开/公告日：2009-04-01

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:E·C·凯德泽克;J·范德埃克;D·L·安斯托特兹

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1. 一种光刻设备，包括：衬底台，其构造成支撑衬底；衬底台内的凹部，其构造成容纳对象物体；和清洁流体供给装置，其构造成供给清洁流体到凹部的至少一个外部区域。