以钠钙玻璃为衬底的光掩模及其制造方法

摘要：

本发明公开了一种以钠钙玻璃为衬底的光掩模及制造方法，该光掩模包括钠钙玻璃基片、铬氮化物遮光膜层、铬氮氧化物减反射膜层，还包括铬氧化物或硅氧化物阻挡层，所述阻挡层、遮光膜层、减反射膜层用真空磁控溅射方法依次镀在所述钠钙玻璃基片上。本发明显著减少了制版过程中，因钠离子导致的刻蚀图形线条边缘产生的“凹陷”缺陷，从而大幅度延长了铬掩模板在加工成光刻掩模版前的存放期限，有效改善了铬掩模板的品质。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810143899.7

申请日期：2008-12-11

公开/公告号：CN101424873

公开/公告日：2009-05-06

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:湖南普照信息材料有限公司

发明/设计人:李弋舟;易赛强;李 伟;魏 敏;A·哈吉

主申请人地址:410205湖南省长沙市高新技术产业开发区麓枫路40号

专利代理机构:长沙永星专利商标事务所

代理人:周 咏%米中业

国别省市代码:湖南;43

权利要求：

1、一种以钠钙玻璃为衬底的光掩模，包括钠钙玻璃基片、铬氮化物遮光膜层、铬氮氧化物减反射膜层，其特征在于还包括铬氧化物或硅氧化物阻挡层，所述阻挡层、遮光膜层、减反射膜层依次镀在所述钠钙玻璃基片上。