双面压印光刻系统

摘要：

本发明提供一种双面压印光刻系统，该双面压印光刻系统包括：介质支撑单元，支撑介质，其中，所述介质的两个表面涂覆有紫外(UV)硬化树脂；第一模具支撑单元和第二模具支撑单元，分别支撑第一模具和第二模具，并分别设置在介质支撑单元之上和之下；竖直运动装置，使介质支撑单元、第一模具支撑单元和第二模具支撑单元中的至少一个竖直地运动；第一UV照射装置，安装在第一模具支撑单元之上，以照射UV光线；第二UV照射装置，安装在第二模具支撑单元之下，以照射UV光线。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810130342.X

申请日期：2008-07-11

公开/公告号：CN101377618

公开/公告日：2009-03-04

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:三星电子株式会社

发明/设计人:赵恩亨;左圣熏;孙镇昇;李斗铉

主申请人地址:韩国京畿道水原市

专利代理机构:北京铭硕知识产权代理有限公司

代理人:郭鸿禧%杨 静

国别省市代码:韩国;KR

权利要求：

1、一种双面压印光刻系统，包括:介质支撑单元，支撑介质，其中，所述介质的两个表面涂覆有UV硬化树脂；第一模具支撑单元和第二模具支撑单元，分别支撑第一模具和第二模具，并分别设置在介质支撑单元之上和之下；竖直运动装置，使介质支撑单元、第一模具支撑单元和第二模具支撑单元中的至少一个竖直地运动；第一UV照射装置，安装在第一模具支撑单元之上，以照射UV光线；第二UV照射装置，安装在第二模具支撑单元之下，以照射UV光线。