一种曝光的方法

摘要：

本发明公开一种曝光的方法，用来避免曝光过程中透镜组温度升高所产生的负面影响。首先，使光束通过透镜组的第一受光区域，而将图案曝光在基材上，此时第一受光区域的温度升高。移开第一受光区域。再使光束穿过透镜组的第二受光区域，使得第一受光区域的温度降低。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810125975.1

申请日期：2008-06-16

公开/公告号：CN101609261

公开/公告日：2009-12-23

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:南亚科技股份有限公司

发明/设计人:施江林;周国耀

主申请人地址:中国台湾桃园县

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:陈小雯

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

1.一种曝光的方法，包含： 提供一可接受包括了第一图案以及第二图案的图案转换的基材、一光束与一可让该光束通过，并将图案转换至基材上的投影光学系统； 在该投影光学系统中至少提供一第一受光区域以及一第二受光区域，其中该第一受光区域对应于该第一图案，并该第二受光区域对应于该第二图案； 将该光束通过该第一受光区域，而可将该第一图案曝光在该基材上；以及 将该光束通过该第二受光区域，而可将该第二图案曝光在该基材上。