具有编码器型位置传感器系统的光刻设备

摘要：

本发明公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统配置用于测量光刻设备的衬底台相对于参考结构的位置。所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，而所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810109166.1

申请日期：2008-05-23

公开/公告号：CN101359182

公开/公告日：2009-02-04

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:皮特·保罗·斯汀贾尔特;威尔赫尔姆斯·约瑟夫斯·鲍克斯;艾米爱尔·尤泽夫·梅勒妮·尤森;埃瑞克·罗埃劳夫·鲁普斯卓;恩格尔伯塔斯·安东尼尔斯·弗朗西斯克斯·范德帕斯克;鲁德·安东尼尔斯·卡萨丽娜·玛丽亚·比伦斯;埃尔伯塔斯·亚得里亚内斯·史密特斯

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射系统，所述照射系统被配置用于调节辐射束；支撑件，所述支撑件被构造用于保持图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，所述衬底台被构造用于保持衬底；投影系统，所述投影系统被配置用于将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；以及编码器型传感器系统，所述编码器型传感器系统被配置用于测量衬底台相对于参考结构的位置，所述编码器型传感器系统包括编码器传感器头和编码器传感器目标，且所述光刻设备包括用于容纳所述编码器传感器目标的凹陷。