含氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物以及用其清洁微电子基板的方法

摘要：

本发明涉及含氟化物的光致抗蚀剂剥离剂或残余物移除清洁组合物以及用其清洁微电子基板的方法。半水性微电子清洁制剂，其包括：(a)至少一种提供氟离子的氟化合物，(b)至少一种“褐色”α-羟基羰基化合物，其是α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物，和(c)水。该制剂还可以包含其它任选的成分，包括(d)至少一种极性的，可与水混溶的有机溶剂，(e)至少一种无金属离子的碱，其量足以使最终组合物的pH为7或更高，优选pH为约9.5至约10.8，和一种或多种(f)多羟基醇和(g)表面活性剂。该组合物用于清洁微电子设备，而没有任何明显的金属腐蚀，且与ILDs相容。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810095961.X

申请日期：2008-04-30

公开/公告号：CN101452227

公开/公告日：2009-06-10

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:马林克罗特贝克公司

发明/设计人:稻冈诚二;威廉·R·格米尔

主申请人地址:美国新泽西州

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:张平元

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1. 水性或半水性含氟化物微电子清洁组合物，其包括：(a)至少一种提供氟离子的含氟化合物，(b)至少一种“褐色”的α-羟基羰基化合物与胺或铵化合物的寡聚或多聚共轭物，和(c)水。