可调节透过率的掩模板、制造方法及其掩模方法

摘要：

本发明涉及一种可调节透过率的掩模板、制造方法及其掩模方法，掩模板包括基板，所述基板上形成有透光区域、非透光区域和部分透光区域，所述部分透光区域上形成有偏振层。制造方法包括：在基板上沉积一层金属层，通过曝光、显影和刻蚀工艺，去除掉基板第一区域的金属层；在基板上形成一层偏振层，该偏振层至少覆盖第一区域；通过强脉冲激光扫描灰化或刻蚀工艺，使第一区域形成部分透光区域，其他区域形成透光区域和非透光区域。掩模方法包括：确定光刻胶的曝光程度，调整偏振滤光元件的偏振方向；将掩模板放置在目标基板上，并曝光；移开掩模板。本发明提高了光刻工艺的可控性，降低了开发和生产成本，提高了产品质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810056495.4

申请日期：2008-01-18

公开/公告号：CN101487972

公开/公告日：2009-07-22

主分类号：G03F1/14(2006.01)I

申请/专利权人:北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:周伟峰;郭 建;明 星

主申请人地址:100176北京市经济技术开发区西环中路8号

专利代理机构:北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人:刘 芳

国别省市代码:北京;11

权利要求：

1、一种可调节透过率的掩模板，包括基板，所述基板上形成有透光区域、非透光区域和部分透光区域，其特征在于，至少所述部分透光区域上形成有偏振层。