凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法

摘要：

本发明涉及向光学器件表面上旋涂光刻胶的方法，特别是一种凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法。是在凹球面光学器件开口向上静置状态下将光刻胶涂料注入到凹球面的中心处后，立即将凹球面光学器件转为开口向下状态进行水平方向旋转，待光刻胶涂料固化后停止旋转，即在光学器件的凹球面上获得均匀的光刻胶涂层。本发明方法有效地解决了在凹球面光学器件上获得厚度均匀一致的光刻胶薄膜涂层的技术难题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810050936.X

申请日期：2008-07-08

公开/公告号：CN101359179

公开/公告日：2009-02-04

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

发明/设计人:冯晓国;高劲松;赵晶丽;梁凤超

主申请人地址:130033吉林省长春市东南湖大路16号

专利代理机构:长春菁华专利商标代理事务所

代理人:赵炳仁

国别省市代码:吉林;22

权利要求：

1.一种凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法，其特征在于，是在凹球面光学器件开口向上静置状态下将光刻胶涂料注入到凹球面的中心处后，立即将凹球面光学器件转为开口向下状态进行水平方向旋转，待光刻胶涂料固化后停止旋转，即在光学器件的凹球面上获得均匀的光刻胶涂层。