一种光刻胶清洗剂组合物

摘要：

本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物，包含醇胺类化合物、水溶性极性有机溶剂和水，其中还包含选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种。本发明的清洗剂组合物可以有效除去半导体晶片上的光刻胶、刻蚀或灰化后的光刻胶残留物或其它残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有很弱的腐蚀性，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200810039756.1

申请日期：2008-06-27

公开/公告号：CN101614970

公开/公告日：2009-12-30

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:安集微电子（上海）有限公司

发明/设计人:史永涛;彭洪修;曹惠英

主申请人地址:201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室

专利代理机构:上海翰鸿律师事务所

代理人:李佳铭

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种光刻胶清洗剂组合物，包含醇胺、水溶性极性有机溶剂和水，其特征在于，还含有选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种。