光学系统、具体而言微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜

摘要：

本发明涉及一种光学系统，具体而言一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜，其包括至少一影响偏振的光学布置(200、400、550)，所述光学布置具有至少两个、光学活性材料的影响偏振的光学元件(210、220)，其中至少一所述影响偏振的元件(210、220)被可旋转地布置。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780047864.7

申请日期：2007-12-07

公开/公告号：CN101568884

公开/公告日：2009-10-28

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡司SMT股份公司

发明/设计人:尼尔斯·迪克曼;达米安·菲奥尔卡

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:邱 军

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

1.一种光学系统，具体而言一种微光刻投射曝光设备的照明系统或投射物镜，包括：至少一影响偏振的光学布置(200、400、550)，具有至少两个、光学活性材料的影响偏振的光学元件(210、220)，其中至少一所述影响偏振元件(210、220)可旋转地布置。