具有用于减小像差的可替换、可操纵的校正布置的光学系统

摘要：

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备，包括用于减小像差的至少一个操纵器(14)，其中操纵器(14)包括至少一个光学元件(8)，该至少一个光学元件(8)由至少一个驱动器(13)操纵，并且其中该操纵器(14)连同驱动器(13)一起以可改变的方式形成。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780044525.3

申请日期：2007-11-27

公开/公告号：CN101548240

公开/公告日：2009-09-30

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡司SMT股份公司

发明/设计人:斯蒂芬·泽尔特;彼得·迈耶;吉多·利姆巴赫;弗朗兹·索格;阿明·舍帕克;乌尔里克·韦伯;乌尔里克·洛林;德克·赫尔韦格;詹斯·库格勒;伯恩哈德·盖尔里奇;斯蒂芬·亨巴彻;伯恩哈德·格珀特;阿克赛尔·戈纳迈耶

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京市柳沈律师事务所

代理人:邱 军

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

1、一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，包括用于减小像差的至少一个操纵器(14)，其中操纵器(14)包括至少一个驱动器(13)和能够由驱动器(13)操纵的至少一个光学元件(8)，其特征在于该操纵器(14)以可改变的方式形成。