含有氢氧化四烃基铵的显像废液的中和方法

摘要：

本发明提供一种使含有氢氧化四烃基铵的显像废液与二氧化碳发生反应且将其中和的中和方法，该废液是溶解有来自光刻胶的有机物的废液，该中和方法有效防止在中和时在塔内发生光刻胶析出的情况造成的堵塞，在中和时析出的光刻胶容易过滤，能够高效率将其去除。在实现这样的目的的本发明的中和方法中，通过对溶解有来自光刻胶的有机物的，pH值13以上的含有氢氧化四烃基铵的显像废液添加二氧化碳将其中和到pH值11.5以下，这样的含有氢氧化四烃基铵的显像废液的中和方法中，从上述显像废液的pH值为13的时刻到pH值达到12的时刻的二氧化碳的添加，按照对pH值为13的时刻的显像废液中的氢氧化四烃基铵的每一摩尔用0.15升/小时以下的添加量进行。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780039985.7

申请日期：2007-11-06

公开/公告号：CN101529338

公开/公告日：2009-09-09

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社德山

发明/设计人:山下喜文;大城户始;中本达也

主申请人地址:日本山口县

专利代理机构:上海天翔知识产权代理有限公司

代理人:刘粉宝

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1.一种含有氢氧化四烃基铵的显像废液的中和方法，通过对溶解有来自光刻胶的有机物的，pH值为13以上的含氢氧化四烃基铵的显像废液添加二氧化碳，将其中和到pH值11.5以下，其特征在于，从上述显像废液的pH值为13的时刻到pH值达到12的时刻的二氧化碳的添加，按照对pH值为13的时刻的显像废液中的氢氧化四烃基铵的每一摩尔用0.15升/小时以下的添加量进行。