使用原位图像修改层的高分辨率成像工艺

摘要：

一种在衬底上形成构图的材料层的方法。在衬底上形成光刻胶层，继而在光刻胶层上形成图像修改材料。构图图像修改材料以形成图像修改图案。然后将图像修改图案和下层光刻胶曝光于适当照射。图像修改图案修改该图像修改图案之下的光刻胶层内的图像强度。然后将所得图案转印到衬底中。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780037691.0

申请日期：2007-10-23

公开/公告号：CN101523290

公开/公告日：2009-09-02

主分类号：G03F7/095(2006.01)I

申请/专利权人:国际商业机器公司

发明/设计人:J·T·阿兹佩罗兹;W-S·黄;M·劳森;K·帕特尔

主申请人地址:美国纽约阿芒克

专利代理机构:北京市金杜律师事务所

代理人:吴立明%陈宇萱

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1. 一种在衬底上形成构图的材料层的方法，所述方法包括：a. 提供在其表面上具有材料层的衬底；b. 在所述材料层上涂敷光刻胶组合物以在所述材料层上形成光刻胶层；c. 在所述光刻胶层上涂敷材料组合物以在所述光刻胶层上形成图像修改材料层；d. 构图所述图像修改材料层以在所述光刻胶层上形成图像修改图案；e. 使用波长λ1的成像照射来曝光所述图像修改图案和光刻胶层，使得所述图像修改图案修改所述图像修改图案之下的所述光刻胶层内的图像强度；f. 去除所述图像修改图案；g. 对所述光刻胶层的部分进行显影以由此在所述衬底上形成构图的光刻胶层；以及h. 将所述构图的光刻胶层转印到所述材料层。