一种光刻胶清洗剂

摘要：

一种光刻胶清洗剂包括缓蚀剂和溶剂，其中缓蚀剂包括两类化合物：一类为烷基醇单芳基醚类化合物，另一类选自酚类化合物，羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物，酸酐、聚酸酐类化合物和/或膦酸、膦酸酯类化合物。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780037460.X

申请日期：2007-10-22

公开/公告号：CN101523298

公开/公告日：2009-09-02

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:安集微电子（上海）有限公司

发明/设计人:彭洪修;史永涛;刘 兵

主申请人地址:中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室

专利代理机构:上海翰鸿律师事务所

代理人:李佳铭

国别省市代码:上海;31