光学元件和方法

摘要：

本发明涉及一种光学元件(1)，用于对光束所照射的光学系统的波前像差进行至少部分的、局部化修正，所述光学元件包括：对光束为光学活性的区域、以及位于光学活性区内的导体轨道(3)，其中，所述导体轨道至少在与光束的入射方向横截的方向具有至多50微米的直径。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780035069.6

申请日期：2007-09-21

公开/公告号：CN101517489

公开/公告日：2009-08-26

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡斯SMT股份公司

发明/设计人:埃里克·埃娃;帕亚姆·塔伊巴蒂;迈克尔·蒂尔;马库斯·豪夫;乌尔里希·舍恩霍夫;奥勒·弗吕格;阿里夫·卡齐;亚历山大·绍尔赫费尔;格哈德·福赫特;约亨·韦伯;托拉夫·格鲁纳

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

1、一种光学元件(1)，用于对能够施以光辐射的光学系统的波前像差进行至少部分空间分解修正，所述光学元件包括：对所述光辐射为光学活性的区域、以及位于所述光学活性区中的导体轨道(3)，其中，所述导体轨道至少在相对于光辐射的入射方向的横截面中具有至多50微米的直径。