光漫射器、光掩模以及它们的制造方法

摘要：

一种具有随机开口的大掩模可这样形成，即形成具有透射开口的随机图案的较小掩模(还被称为单元掩模)，然后将该较小掩模重复复制以产生该较大掩模。该随机图案可通过将开口地点扰动较小的量而产生，或者在满足一定准则的条件下，开口可被随机放置在单元掩模内。作为选择，具有透射开口的随机图案的大掩模可不使用单元掩模而形成。这种大掩模可用于制造没有遭受在具有被非随机地构图的结构的器件中常见的干涉、衍射和其它光学效应的漫射器以及其它器件。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780026758.0

申请日期：2007-07-19

公开/公告号：CN101523288

公开/公告日：2009-09-02

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:路志坚

发明/设计人:路志坚

主申请人地址:美国新泽西

专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:张 钦

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1. 一种光掩模，该光掩模包括：具有多个区域的掩模，其中，该多个区域中的每一个具有被随机定位的透射开口的基本相同的图案。