修正/修复光刻投影物镜的方法

摘要：

一种修正/修复光刻投影曝光设备的投影物镜(10)的方法，该投影物镜包括位于物平面(12)和像平面(16)之间的多个光学元件，该多个光学元件包括至少一个具有屈光力的第一光学元件，该方法包括：在不更换全部的光学元件的情况下，在现场将至少一个第一光学元件从投影物镜中移走，将至少一个备用第一光学元件插入到投影物镜的至少一个第一光学元件的位置，以及将投影物镜的图像质量调整到期望的质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780024684.7

申请日期：2007-07-02

公开/公告号：CN101479667

公开/公告日：2009-07-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔蔡司SMT股份公司

发明/设计人:奥拉夫·罗格尔斯基;鲍里斯·比特纳;托马斯·皮塔斯什;乔辰·海乌斯勒

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司

代理人:余 朦%王艳春

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

1. 一种修正/修复光刻投影曝光设备的投影物镜的方法，所述投影物镜包括多个位于物平面和像平面之间的光学元件，所述多个光学元件包括至少一个具有屈光力的第一光学元件，所述方法包括在不更换全部光学元件的情况下：在现场将所述至少一个第一光学元件从所述投影物镜中移走，将至少一个第一备用光学元件插入所述投影物镜的所述至少一个第一光学元件的位置，以及将所述投影物镜的图像质量调整到期望的质量。