全息记录装置以及全息记录重放方法

摘要：

一种全息记录装置，其向全息记录介质(B)中的记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(R)，并通过上述记录光(S)和参考光(R)之间的干涉而在照射部位(p)上复用记录全息图，所述全息记录装置包括：记录用的参考光反射单元(10)，将参考光(R)导向照射部位(p)；以及摆动单元，使记录用的参考光反射单元(10)绕预定的轴(x)摆动，以此改变反射后的参考光(R)对全息记录介质(B)的入射角(θr)，记录用的参考光反射单元(10)与预定的光路交错地配置，另外，摆动单元中的预定的轴(x)被配置为，即使通过记录用的参考光反射单元(10)摆动而反射后的参考光(R)的入射角(θr)发生了变化，也能够使该反射后的参考光(R)指向照射部位(p)。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780024011.1

申请日期：2007-05-30

公开/公告号：CN101479675

公开/公告日：2009-07-08

主分类号：G03H1/26(2006.01)I

申请/专利权人:富士通株式会社

发明/设计人:宇野和史;手塚耕一;吉川浩宁;岩村康正;山影让;下川聪

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人:赵淑萍%南 霆

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种全息记录装置，其向全息记录介质照射记录光，并且向所述全息记录介质中的所述记录光的照射部位照射参考光，通过上述记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图，所述全息记录装置的特征在于，包括：记录用的参考光反射单元，所述记录用的参考光反射单元在记录时，通过反射沿着预定的光路前进的所述参考光来将反射后的参考光导向所述照射部位；以及摆动单元，所述摆动单元使所述记录用的参考光反射单元绕预定的轴摆动，以此改变所述反射后的参考光对所述全息记录介质的入射角，所述记录用的参考光反射单元与所述预定的光路交错地配置，并且所述摆动单元中的所述预定的轴被配置为，即使通过所述记录用的参考光反射单元摆动而所述反射后的参考光的入射角发生了变化，也能够使该反射后的参考光指向所述照射部位。