具有用来获取光强度的探测器的照明系统

摘要：

本发明涉及一种用于微光刻-投影曝光设备的照明系统，其中，该照明系统包括：光源，其发射≤100nm的波长范围的光，特别是在EUV-波长范围内的光，用来照明出射光瞳平面(121)，以及一种元件，利用该元件在出射光瞳平面(121)的至少一个第一照明(22)中可向第二照明(24)改变，以及至少一个探测器(160.1，160.2)用来检测光，其中，其特征在于，该照明系统包括一种装置(164)，其获取探测器(160.1，160.2)的至少一个光强度信号并至少根据所获取的光强度信号来提供控制信号，利用该信号可以调节在微光刻-投影曝光设备的像平面(221)中的光敏物体的扫描速度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780020002.5

申请日期：2007-07-23

公开/公告号：CN101454724

公开/公告日：2009-06-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:卡尔·蔡司SMT股份公司

发明/设计人:延斯·奥斯曼

主申请人地址:德国上科亨

专利代理机构:北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人:章社杲%李 慧

国别省市代码:德国;DE

权利要求：

1. 一种用于微光刻-投影曝光设备的照明系统，其中，所述照明系统包括：光源，其发射≤100nm波长范围中的光，特别是在EUV-波长范围内的光，用来对出射光瞳平面(121)进行照明，以及一种元件，利用所述元件在所述出射光瞳平面(121)中至少一个第一照明(22)可向第二照明(24)改变，以及至少一个用来探测光的探测器(106.1，106.2)，其中，所述照明系统包括一种装置(164)，所述装置获取探测器(106.1，106.2)的至少一个光强度信号并至少根据所获取的光强度信号来提供控制信号(166)，利用所述控制信号可调节在所述微光刻-投影曝光设备的像平面(221)中的光敏物体的扫描速度。