再现场景的全息投射装置

摘要：

一种用于再现场景的全息投射装置，包含至少一个发出充分相干光以产生波阵面的光源(2)。此外，投射装置包含至少一个含有调制元件(4)的光调制装置(3)，上述投射装置是二维设计的。光调制装置(3)和扫描元件(5、60)相组合使得扫描元件(5、60)发出的光一次仅扫描二维光调制装置(3)的调制元件(4)的一维排列。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780018297.2

申请日期：2007-05-16

公开/公告号：CN101449214

公开/公告日：2009-06-03

主分类号：G03H1/22(2006.01)I

申请/专利权人:视瑞尔技术公司

发明/设计人:菲利普·勒诺-古德

主申请人地址:卢森堡大公国蒙斯拜奇

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司

代理人:王光辉

国别省市代码:卢森堡;LU

权利要求：

1、用于再现场景的全息投射装置，具有至少一个发出充分相干光以产生波阵面的光源，并且具有至少一个含有调制元件并且是二维设计的光调制装置，其特征在于还具有至少一个扫描系统(AS)和一个投射系统(PS)，其中扫描系统(AS)包含至少一个扫描元件(5、60)，其中光调制装置(3)和扫描元件(5、60)相结合使得扫描元件(5、60)发出的光一个接着一个地扫描二维光调制装置(3)的调制元件(4)的一维排列，其中扫描系统(AS)被设计为连续产生含有再现波阵面所需信息的波阵面，其中投射系统(PS)被设计为随后再现场景。