反射折射投影光学系统、反射折射光学装置、扫描曝光装置以及微元件的制造方法

摘要：

本发明是有关于一种扫描曝光装置，其一边将配置于第1面上的第1物体的像投影至配置于第2面上的第2物体上，一边使上述第1物体的像与上述第2物体的位置关系于扫描方向上变化，一边将上述第1物体的图案转印曝光于上述第2物体上，上述扫描曝光装置包括第1投影光学系统以及第2投影光学系统，上述第1投影光学系统于上述第1面上具有第1视场，根据来自该第1视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第1投影区域，上述第2投影光学系统于上述第1面上具有第2视场，根据来自该第2视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第2投影区域；上述第1投影光学系统包括第1光束传送部，该第1光束传送部沿着与连接上述第1面与上述第2面的轴线方向交叉的第1方向，传送来自上述第1视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第1视场的上述第1方向侧的上述第1投影区域，上述第2投影光学系统包括第2光束传送部，该第2光束传送部沿着与上述第1方向相反方向的第2方向，传送来自上述第2视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第2视场的上述第2方向侧的上述第2投影区域，当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，则满足Dp＝β×Dm，其中上述第1间隔是沿着上述第1视场与上述第2视场的上述第1面上的上述扫描方向的间隔，上述第2间隔是沿着上述第1投影区域与上述第2投影区域的上述第2面上的上述扫描方向的间隔。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780009672.7

申请日期：2007-02-23

公开/公告号：CN101405659

公开/公告日：2009-04-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社尼康

发明/设计人:加藤正纪

主申请人地址:日本东京

专利代理机构:北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人:寿 宁

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1、一种扫描曝光装置，其一边将配置于第1面上的第1物体的像投影至配置于第2面上的第2物体上，一边使上述第1物体的像与上述第2物体的位置关系于扫描方向上变化，一边将上述第1物体的图案转印曝光于上述第2物体上，其特征在于其包括：第1投影光学系统，于上述第1面上具有第1视场，根据来自该第1视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第1投影区域内；以及第2投影光学系统，于上述第1面上具有第2视场，根据来自该第2视场的光，将上述第1物体的一部分放大像投影至第2面上的第2投影区域内，且上述第1投影光学系统包括第1光束传送部，上述第1光束传送部沿着与连接上述第1面与上述第2面的轴线方向交叉的第1方向，传送来自上述第1视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第1视场的上述第1方向侧的上述第1投影区域，上述第2投影光学系统包括第2光束传送部，上述第2光束传送部，沿着与上述第1方向相反方向的第2方向，传送来自上述第2视场的光，自上述轴线方向观察，上述光导向位于上述第2视场的上述第2方向侧的上述第2投影区域，当将第1间隔设为Dm、将第2间隔设为Dp、将上述第1及第2投影光学系统的倍率设为β时，满足Dp＝β×Dm，其中第1间隔是沿着上述第1视场与上述第2视场的上述第1面上的上述扫描方向的间隔，第2间隔是沿着上述第1投影区域与上述第2投影区域的上述第2面上的上述扫描方向的间隔。