含有苯并唑衍生物及其类似物作为敏化剂的紫外线敏感的平版印版前体
平版印版前体,其包含(a)具有亲水性表面的平版基材,和(b)在亲水性表面上的辐射敏感涂层,其包含(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物,每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯属不饱和基团,(ii)至少一种敏化剂,和(iii)至少一种能够与敏化剂一起形成自由基的助引发剂,所述助引发剂是除茂金属以外的助引发剂,其特征在于,至少一种敏化剂包含式(I)化合物,其中基团R<sub>9</sub>-R<sub>12</sub>中的至少一个是范德华体积至少为55<sup>3</sup>的大体积基团。
发明专利
CN200780004999.5
2007-01-31
CN101379433
2009-03-04
G03F7/031(2006.01)I
柯达图形通信有限责任公司
B·施特雷梅尔;H·鲍曼
德国奥斯特罗德
中国专利代理(香港)有限公司
赵苏林%范 赤
德国;DE
1. 平版印版前体,其包含(a)具有亲水性表面的平版基材,和(b)在亲水性表面上的辐射敏感涂层,其包含(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物,每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯属不饱和基团,(ii)至少一种敏化剂,和(iii)至少一种能够与敏化剂(ii)一起形成自由基的助引发剂,所述助引发剂是除茂金属以外的助引发剂,其特征在于,至少一种敏化剂包含式(I)化合物其中R4选自氢、CN、卤素、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、N(R)2、N(R)3+和-PO3(R)2,其中每个R选自H、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基;R5和R6独立地选自氢、CN、卤素、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、N(R)2、N(R)3+和-PO3(R)2,其中每个R选自H、烷基、芳基、芳烷基;R4和R6可以形成5元或6元的稠合芳环;R7和R8独立地选自氢、CN、卤素,和未取代和取代的烷基、烷芳基、芳烷基和芳基;n选自0、1和2;Z表示O、S、Se或NR,其中R选自氢、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基;R9-R12独立地选自氢、卤素、CN、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、N(R)2、N(R)3+和-PO3(R)2,其中每个R选自H、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基,前提是基团R9-R12中的至少一个是范德华体积至少为的大体积基团;并且,其中或者R1和R2与它们连接的氮原子一起形成N-杂芳基,其任选地表现为一个或两个稠合苯环;和R3选自氢、CN、卤素、未取代和取代的烷基、芳烷基、烷芳基和芳基、-O-烷基、-O-芳基、-S-烷基、-COOR、-SOR、-SO2R、-SO3R、-NO2、N(R)2、N(R)3+和-PO3(R)2,其中每个R选自H、烷基、芳基、芳烷基和烷芳基;或者R2选自未取代和取代的芳基,和未取代和取代的杂芳基,所述芳基或杂芳基与R3连接形成N-杂环;和R1选自氢、未取代和取代的芳基、未取代和取代的杂芳基,和未取代和取代的烷基;如果R2没有与R3连接,则R3和R5可以形成5元或6元的稠合芳环。