光掩模用基板以及光掩模和该光掩模的制造方法

摘要：

本发明提供一种通过湿式蚀刻可高精度地形成微细图案的光掩模用基板、光掩模以及该光掩模的制造方法。一种光掩模用基板(2)，其具备透明基板(10)、具有半透射性的半透射层(20)、形成于该半透射层(20)上且对照射光实质上遮光的遮光层(33)，其中，半透射层(20)由氮化钛(TiN_x：在此，0＜x＜1.33)形成，该氮化钛与遮光层(33)相比，相对于蚀刻液(A)为不溶性或难溶性，并且相对于蚀刻液(B)为易溶性。另一方面，遮光层(33)由金属铬(Cr)形成，该金属铬(Cr)与半透射层(20)相比，相对于蚀刻液(A)为易溶性，并且相对于蚀刻液(B)为不溶性或难溶性。由于各层相对于蚀刻液的蚀刻耐性不同，故可不对其它层造成损伤地选择性地蚀刻半透射层(20)和遮光层(33)。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200780001862.4

申请日期：2007-11-06

公开/公告号：CN101548238

公开/公告日：2009-09-30

主分类号：G03F1/08(2006.01)I

申请/专利权人:吉奥马科技有限公司

发明/设计人:菅原浩幸

主申请人地址:日本国神奈川县

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李贵亮

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1、一种光掩模用基板，其具备透明基板、形成于该透明基板上且相对于照射光具有半透射性的第一层、以及形成于该第一层上且对照射光实质上遮光的第二层，该光掩模用基板可形成由该第二层形成的遮光图案在表面露出的遮光部、由所述第一层形成的半透射图案在表面露出的半透射部、以及所述透明基板在表面露出的透明部，其特征在于，所述第一层与所述第二层相比，相对于第一蚀刻液为不溶性或难溶性，并且相对于第二蚀刻液为易溶性，所述第二层与所述第一层相比，相对于所述第一蚀刻液为易溶性，并且相对于所述第二蚀刻液为不溶性或难溶性。