一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法

摘要：

本发明提供了一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法，包括以下步骤：步骤1，在晶片上涂覆聚酰亚胺；步骤2，对聚酰亚胺层分别用不同的显影时间进行显影，用以测定待检测晶片表面是否剩余有聚酰亚胺；步骤3，利用膜厚量测装置再测定待检测晶片的表面是否剩余有聚酰亚胺，如有剩余聚酰亚胺，则测定聚酰亚胺残留的厚度，从而获得最小聚酰亚胺的曝光阈值。本发明的有益效果在于，通过对聚酰亚胺曝光阈值进行双重监测，即可以量化监测结果，避免原有的目视人为判断失误，可以保存量化的量测结果，以便进行统计制程控制，更准确地得到聚酰亚胺的曝光阈值。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710187792.8

申请日期：2007-11-30

公开/公告号：CN101452223

公开/公告日：2009-06-10

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:和舰科技（苏州）有限公司

发明/设计人:周家驹

主申请人地址:215025江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司

代理人:张春媛

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

1. 一种监测聚酰亚胺的曝光阈值的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤1，在晶片上涂覆聚酰亚胺；步骤2，对聚酰亚胺层分别用不同的显影时间进行显影，用以测定待检测晶片表面是否剩余有聚酰亚胺；步骤3，利用膜厚量测装置再测定待检测晶片的表面是否剩余有聚酰亚胺，如有剩余聚酰亚胺，则测定聚酰亚胺残留的厚度，从而获得最小聚酰亚胺的曝光阈值。