一种硅片调焦调平测量装置

摘要：

本发明提供一种硅片调焦调平测量装置，其测量光路分布于投影物镜光轴的两侧，其包括照明单元、投影单元、成像单元及探测单元；照明单元包括光源、透镜组及光纤组成；投影单元包括反射镜组、狭缝及透镜组；成像单元包括反射镜组、透镜组及平行偏转补偿板；其中，探测单元由探测栅盘、扫描栅盘及象限探测器组成；所述照明单元的光源通过投影单元在硅片表面形成一个测量光斑，该测量光斑通过成像单元成像；探测栅盘将测量光斑进一步细分成若干个独立的小测量光斑；探测栅盘和扫描栅盘之间相互运动，对细分后的小测量光斑入射到象限探测器的光强进行调制。本发明可以减少硅片表面形貌及反射率局部非均匀性对测量结果的影响。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710173577.2

申请日期：2007-12-28

公开/公告号：CN101344734

公开/公告日：2009-01-14

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:陈飞彪;李志丹;潘炼东;廖飞红;程吉水;李志科

主申请人地址:201203上海市张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种硅片调焦调平测量装置，其测量光路分布于投影物镜光轴的两侧，其包括照明单元、投影单元、成像单元及探测单元；照明单元包括光源、透镜组及光纤组成；投影单元包括反射镜组、狭缝及透镜组；成像单元包括反射镜组、透镜组及平行偏转补偿板；其特征在于：探测单元由探测栅盘、扫描栅盘及象限探测器组成；所述照明单元的光源通过投影单元在硅片表面形成一个测量光斑，该测量光斑通过成像单元成像；探测栅盘将测量光斑进一步细分成若干个独立的小测量光斑；探测栅盘和扫描栅盘之间相互运动，对细分后的小测量光斑入射到象限探测器的光强进行调制。