制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置

摘要：

本发明提供一种制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置，其是通过控制至少两道特定形状的同调光束，使其投射至一待曝光基材上以形成特定区域大小的干涉条纹。然后，再通过由多数次步进移动的方式控制待曝光基材或者是该两道特定形状的同调光束的位置，以于该待曝光基材上形成具有大面积的预定图案。通过本发明的方式可以缩短光学传播路径与曝光时间，进而减少微影制程缺陷的产生以及增加制程良率。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710122780.7

申请日期：2007-07-09

公开/公告号：CN101344726

公开/公告日：2009-01-14

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:财团法人工业技术研究院

发明/设计人:王伦;陈永彬;饶智升;张所鋐;张哲豪

主申请人地址:台湾省新竹县

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:周国城

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

1.一种制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法，其特征在于包括 下列步骤： (a)提供至少两道特定形状的同调光束以及一待曝光基材； (b)使该至少两道特定形状的同调光束，同时照射至该待曝光基材表 面，于该待曝光基材表面形成一特定干涉图案区块； (c)以步进方式调整下一次曝光位置；以及 (d)重复该步骤(b)至(c)多数次，使该待曝光基材表面上形成有一预 定图案。