光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置

摘要：

本发明公开了一种光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置，通过液晶来控制光刻成像系统光路中偏振光的偏振方向，避免了需在传统光刻透镜成像系统中的光路中机械地插入偏振片，从而提高了对偏振方向细微变化的分辨度；而且，本发明所述偏振光源装置可简单有效地控制偏振光方向，且便于切换相互垂直的偏振光和非偏振光。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710094256.3

申请日期：2007-11-22

公开/公告号：CN101441417

公开/公告日：2009-05-27

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海华虹NEC电子有限公司

发明/设计人:陈福成

主申请人地址:201206上海市浦东新区川桥路1188号

专利代理机构:上海浦一知识产权代理有限公司

代理人:周 赤

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种光刻透镜成像系统中基于液晶的偏振光源装置，其特征在于，该装置仅包括一液晶偏振控制器，且所述液晶偏振控制器放置在所述光刻透镜成像系统中的偏振片和掩膜板平面之间，并且所述液晶偏振控制器的透明导电膜与所述掩膜板平面平行。