控制双作用气缸活塞移动速度的装置

摘要：

本发明提供了一种在晶片加工过程中控制双作用气缸活塞移动速度的装置，该装置连接于双作用气缸的两进气端控制其运动，该控制装置包括：两组变速装置和两位五通电磁阀；在该控制装置中两位五通电磁阀的进气口接气源，两位五通电磁阀的一个出气口通过一组变速装置接双作用气缸的一个进气端，两位五通电磁阀的另一个出气口通过另一组变速装置接双作用气缸的另一个进气端。该变速装置包括两个节流阀和两个两位二通电磁阀。通过该控制装置可以实现晶片在入座和离座过程中先慢后快的动作，从而防止因撞击而对晶片造成的损坏。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710063228.5

申请日期：2007-01-04

公开/公告号：CN101216058

公开/公告日：2008-07-09

主分类号：F15B15/22(2006.01)I

申请/专利权人:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司

发明/设计人:张宝辉

主申请人地址:100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼

专利代理机构:北京凯特来知识产权代理有限公司

代理人:郑立明%王连军

国别省市代码:北京;11

权利要求：

1. 一种控制双作用气缸活塞移动速度的装置，连接于双作用气缸的两进气端控制其运动，其特征在于，所述控制装置包括两组变速装置和换向阀；所述换向阀的进气口接气源，换向阀的一个出气口通过一组变速装置接双作用气缸的一个进气端，换向阀的另一个出气口通过另一组变速装置接双作用气缸的另一个进气端。