一种堆叠式光刻对准标记

摘要：

一种堆叠式光刻对准标记，由多个金属层和过孔层交叉排列而成；相邻两个金属层中，第一金属层(201)的对准单元中是金属(1)的地方，在第二金属层(203)中变为氧化物(2)，在第一金属层(201)中是氧化物(2)的地方，在第二层(203)中是金属(1)；每一个金属层的对准单元的中间部分都为氧化物(2)。本光刻对准标记能大大节省切割道上的空间。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200710047360.7

申请日期：2007-10-24

公开/公告号：CN101419407

公开/公告日：2009-04-29

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

发明/设计人:杨晓松

主申请人地址:201203上海市张江路18号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所

代理人:屈 蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种堆叠式光刻对准标记，由多个金属层和过孔层交叉排列，其特征在于，相邻的金属层中，第一金属层(201)的对准单元中是金属(1)的地方，在第二金属层(203)中变为氧化物(2)，在第一金属层(201)中是氧化物(2)的地方，在第二层(203)中是金属(1)；每一个金属层中的对准单元的中间部分都为氧化物(2)。