一种光刻胶清洗剂
本发明公开了一种光刻胶清洗剂,其含有:季铵氢氧化物、聚羧酸类缓蚀剂、芳基醇和/或其衍生物、二甲基亚砜和水。本发明的光刻胶清洗剂可有效除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(光阻)和其它刻蚀残留物,同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有很低的腐蚀性,在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。
发明专利
CN200710045210.2
2007-08-23
CN101373340
2009-02-25
G03F7/42(2006.01)I
安集微电子(上海)有限公司
史永涛;彭洪修;曹惠英;刘 兵;曾 浩
201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
上海翰鸿律师事务所
李佳铭
上海;31
1.一种光刻胶清洗剂,其特征在于含有:季铵氢氧化物、聚羧酸类缓蚀剂、芳基醇和/或其衍生物、二甲基亚砜和水。