全息记录装置

摘要：

一种全息记录装置(A)，通过记录光(S)与参考光(R)的干涉来记录全息图，物镜(7)构成为具有预定的像差，当将入射到分光器(3)中的激光的光强度设为1、将通过分光器(3)分离的记录光(S)和参考光(R)的光强度分别设为P、1-P、将记录光(S)从分光器(3)到物镜(7)之间的光学倍率设为a、将在空间光调制器(5)中用于记录光(S)的调制的像素数设为N、记录光(S)的振幅为参考光(R)的振幅的1/k倍且记录光(S)的振幅为像差为0的情况下的记录光(S)的振幅的X倍时，预定的像差被设定成满足上式的条件。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680055573.8

申请日期：2006-08-09

公开/公告号：CN101506741

公开/公告日：2009-08-12

主分类号：G03H1/04(2006.01)I

申请/专利权人:富士通株式会社

发明/设计人:宇野和史;手塚耕一;吉川浩宁

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人:赵淑萍%南 霆

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种全息记录装置，包括：分光器，将来自光源的激光分离成记录光和参考光；空间光调制器，根据应记录的信息来调制所述记录光；物镜，使被调制后的所述记录光聚集在全息记录介质的预定部位；以及参考光学系统，照射所述参考光，以使所述参考光在所述预定部位与所述记录光重叠；所述全息记录装置通过所述记录光与所述参考光的干涉而将全息图记录在所述预定部位，其特征在于，所述物镜构成为具有预定的像差，当将入射到所述分光器中的所述激光的光强度设为1、将被所述分光器分离的所述记录光和所述参考光的光强度分别设为P、1—P、将所述记录光从所述分光器到所述物镜之间的光学倍率设为a、将在所述空间光调制器中用于所述记录光的调制的像素数设为N、所述预定部位中的所述记录光的振幅为所述参考光的振幅的1/k倍且所述记录光的振幅为像差为0的情况下的所述记录光的振幅的X倍时，所述预定的像差被设定成满足下式的条件。[数1]