全息记录装置

摘要：

一种全息记录装置(A1)，包括：光源(1)，发出激光；分光器(3)，将来自所述光源(1)的激光分离成记录光(S)和参考光(R)；空间光调制器(5)，根据应记录的信息来调制记录光(S)；记录光学系统，向全息记录介质(B)的预定部位照射被调制了的记录光(S)；以及参考光学系统，在使相对于全息记录介质(B)的入射角变化的情况下照射参考光(R)，以使参考光(R)在预定部位以各种角度与记录光(S)干涉；通过记录光(S)与参考光(R)的干涉而将全息图多重记录在预定部位，全息记录装置(A1)还包括：光量调节单元(8)，根据相对于全息记录介质(B)的入射角来可变地调节从分光器(3)射出后的参考光(R)的光量，以使预定部位上的参考光(R)的照度成为预定的稳定水平。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680055439.8

申请日期：2006-07-28

公开/公告号：CN101501580

公开/公告日：2009-08-05

主分类号：G03H1/26(2006.01)I

申请/专利权人:富士通株式会社

发明/设计人:岩村康正;宇野和史;手塚耕一;吉川浩宁;山影让

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人:赵淑萍%南 霆

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种全息记录装置，包括：光源，发出激光；分光器，将来自所述光源的激光分离成记录光和参考光；空间光调制器，根据应记录的信息来调制所述记录光；记录光学系统，向全息记录介质的预定部位照射被调制了的所述记录光；以及参考光学系统，在使相对于所述全息记录介质的入射角变化的情况下照射所述参考光，以使所述参考光在所述预定部位以各种角度与所述记录光干涉；通过所述记录光与所述参考光的干涉而将全息图多重记录在所述预定部位，所述全息记录装置的特征在于，包括光量调节单元，根据相对于所述全息记录介质的入射角来可变地调节从所述分光器射出后的所述参考光的光量，以使所述预定部位上的所述参考光的照度成为预定的稳定水平。