全息记录装置以及全息记录方法

摘要：

全息记录装置以固定的入射角(θs)向全息记录介质(B)照射记录光(S)，并且在可变地控制对全息记录介质(B)的入射角(θr)的情况下向所述记录光(S)的照射部位(p)照射参考光(S)，从而对全息图进行复用记录，其中包括：至少一个可变反射单元(10)，其通过反射将参考光(R)引向照射部位(p)，并绕预定轴(x)摆动，以使该参考光(R)的入射角(θr)改变；以及遮光单元(11)，其与可变反射单元(10)一体地摆动，并部分地遮挡参考光，以使得所述参考光(R)的入射角(θr)越大，该参考光(R)的光束直径就越小。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680054702.1

申请日期：2006-06-09

公开/公告号：CN101449215

公开/公告日：2009-06-03

主分类号：G03H1/26(2006.01)I

申请/专利权人:富士通株式会社

发明/设计人:宇野和史;手塚耕一;吉川浩宁;岩村康正;山影让

主申请人地址:日本神奈川县

专利代理机构:北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人:宋 鹤%南 霆

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1. 一种全息记录装置，其向全息记录介质照射记录光，并且在可变地控制向所述全息记录介质的入射角的情况下向所述记录光的照射部位照射参考光，并通过这些记录光和参考光之间的干涉而在所述照射部位上复用记录全息图，所述全息记录装置的特征在于，包括：至少一个可变反射单元，所述至少一个可变反射单元通过反射将所述参考光引向所述照射部位，并绕预定的轴摆动，以使所述参考光的入射角改变；以及遮光单元，所述遮光单元与所述可变反射单元一体地摆动，并部分地遮挡所述参考光，以使得所述参考光的入射角越大，所述参考光的光束直径就越小。