声表面波装置的制造方法及声表面波装置

摘要：

本发明提供一种声表面波滤波器装置(1)的制造方法，包括如下工序：在压电基板(2)的一个主面(2a)形成槽(2b、2c)，并在槽(2b)中埋入金属膜形成了IDT电极之后，按照从压电基板(2)的一个主面(2a)除去压电基板(2)的一部分的方式实施加工，由此，在形成了被埋入IDT电极的具有底面的凹部(2d)之后，将盖部件(13)与压电基板(2)接合。从而，可提供不需要复杂的加工工序，且不需要准备复杂形状的盖部件等部件、廉价且可促进小型化的声表面波装置及其制造方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680050852.5

申请日期：2006-12-12

公开/公告号：CN101356727

公开/公告日：2009-01-28

主分类号：H03H3/08(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社村田制作所

发明/设计人:门田道雄;木村哲也

主申请人地址:日本京都府

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:李香兰

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1、一种声表面波装置的制造方法，包括：准备压电基板和盖部件的工序；在所述压电基板的一个主面，在设置IDT电极及布线电极的部分形成槽的工序；在所述压电基板的所述一个主面，至少在所述槽内形成金属膜的工序；在所述槽内的金属膜及该槽周边的压电基板部分，按照从所述压电基板的主面侧除去压电基板的一部分的方式形成凹部，利用位于所述槽内的金属膜形成所述IDT电极及所述布线电极的工序；和将盖部件与所述压电基板的所述一个主面接合的工序。