冷却设备

摘要：

公开了一种冷却设备，所述冷却设备具有第一冷却结构(220)，所述第一冷却结构与温度高于冷却结构(250)的热源进行热接触，并包括冷却流体所流经的通道；在所述热源和所述冷却结构之间的隔离器(230)，所述隔离器与所述第一冷却结构进行热接触，并包括低热导率材料；以及在所述隔离器和所述冷却结构之间的第二冷却结构(240)，所述第二冷却结构包括冷却流体所流经的通道。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680043037.6

申请日期：2006-11-16

公开/公告号：CN101405658

公开/公告日：2009-04-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

发明/设计人:斯文·安东尼·约翰·郝尔;安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克;埃瑞克·洛埃劳夫·鲁普斯卓;弗朗西克斯·马塞吉斯·雅各布斯;马克·斯考尔腾

主申请人地址:荷兰维德霍温

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:王波波

国别省市代码:荷兰;NL

权利要求：

1.一种冷却设备，所述冷却设备包括：第一冷却结构，所述第一冷却结构与温度高于冷却结构的热源进行热接触，并包括冷却流体流经的通道；在热源和冷却结构之间的隔离器，所述隔离器与所述第一冷却结构进行热接触，并包括低热导率的材料；以及在所述隔离器和所述冷却结构之间的第二冷却结构，所述第二冷却结构包括冷却流体流经的通道。