利用压印光刻和直接写入技术制造器件的方法

摘要：

本发明提供一种制造方法以及制造集成电路的方法。除其它步骤外，该制造方法可以包括利用压印光刻在衬底上形成一个或多个第一类型的器件，而且利用直接写入技术在该衬底上形成一个或多个第二类型的器件。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200680009268.5

申请日期：2006-03-23

公开/公告号：CN101479661

公开/公告日：2009-07-08

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:艾格瑞系统有限公司

发明/设计人:克里斯托弗·P·布朗;塞勒西·奇逖皮迪;弗莱德瑞克·R·佩佛尔

主申请人地址:美国宾夕法尼亚

专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人:付建军

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1. 一种制造方法，包括：利用压印光刻在衬底上形成一个或多个第一类型的器件，以及利用直接写入技术在所述衬底上形成一个或多个第二类型的器件。