45°入射宽光谱消偏振滤光片的构建方法
本发明公开了一种45°入射宽光谱消偏振滤光片的构建方法，包括：采用两个中心波长不同的双反射膜堆加三匹配层的构思建立基本膜系，然后对基本膜系膜层厚度运用膜系设计与分析软件Tfcalc3.5中的变尺度优化方法进行优化，即得最终镀膜膜系的膜层厚度。本发明的滤光片构建方法具有的优点是只需高低折射率两种膜料；仅对部分膜层厚度进行优化，且膜层层数较少，易于镀制；入射角度对偏振变化不敏感；该滤光片具有宽光谱、低偏振度及高消光比的特点；滤光片的基底选材和膜料选材范围宽。
发明专利
CN200610118740.0
2006-11-24
CN1959447
2007-05-09
G02B5/20(2006.01)I
中国科学院上海技术物理研究所
马小凤;刘定权;陈 刚;李大琪;朱 圳;张凤山;严义勋
200083上海市玉田路500号
上海新天专利代理有限公司
田申荣
上海;31
权利要求书1.一种45°入射宽光谱消偏振滤光片的构建方法，其特征在于包括如下步骤：§A.建立基本膜系：基底正面膜系为基底/(g1Hg2Lg1H)2(HL)8(g1Hg2Lg1H)2(H’L’)11(g1Hg2Lg1H)2/空气；基底背面膜系为：基底/0.8H0.6L1.3H2L/空气；其中：入射介质为空气，基底为熔凝石英或者BK7玻璃；g1，g2是膜层厚度系数，其取值范围均在0.5～2.5之间，视参考波长而定；(HL)8和(H’L’)11为两个中心波长不同的双反射膜堆，(HL)8中心波长为λ1，(H’L’)11中心波长为λ2；两个(g1Hg2Lg1H)2为匹配层，两个反射膜堆之间的(g1Hg2Lg1H)2为平滑层；H、L分别代表光学厚度为λ1/4高、低折射率膜层，H’、L’分别代表光学厚度为λ2/4高、低折射率膜层。§B.对上述的正面基本膜系膜层厚度进行优化：运用膜系设计与分析软件Tfcalc3.5中的变尺度优化方法，将滤光片截止带的反射率R＝100％及其透射带的透射率T＝100％作为优化目标函数，对上述正面膜系中各匹配层的膜层厚度以及反射膜堆中的低折射率膜层厚度进行变尺度优化，即得最终镀膜膜系的膜层厚度。