一种光致抗蚀膜的退除剂

摘要：

一种光致抗蚀膜的退除剂，它的重量百分比组成是：复合有机碱10％-30％；聚醚类活性剂1％-5％；碎膜剂1％-5％；铜缓蚀剂0.1％-1％；去离子水60％-70％；所述复合有机碱是具有化学式X-R-NH₂的有机胺中的至少两种，X为H、NH₂或OH，R为亚烷基；聚醚类活性剂为环氧乙烷与环氧乙烷的嵌段共聚物或无机共聚物中的至少一种；碎膜剂为长碳链的脂肪胺；铜缓蚀剂为苯并三氮唑及其衍生物的中的至少一种。本发明退膜性能好，其退膜速率高，退膜量大，使用成本低，无锡迁移、铜腐蚀，不玷污纯锡、金、银表面，退膜时对金属层具有优异的保护性能，特别适合挠性线路和精细线路等高端印制板的制作，生产使用均安全环保。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200610031646.1

申请日期：2006-05-12

公开/公告号：CN101071278

公开/公告日：2007-11-14

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:湖南省科学技术研究开发院

发明/设计人:饶桂春;汤明坤;罗新辉;谭丽霞

主申请人地址:410004湖南省长沙市青园路506号

专利代理机构:长沙正奇专利事务所有限责任公司

代理人:马 强

国别省市代码:湖南;43

权利要求：

1、一种光致抗蚀膜的退除剂，其特征是，它的重量百分比组成是：复合有机碱 10％-30％；聚醚类活性剂 1％-5％；碎膜剂 1％-5％；铜缓蚀剂 0.1％-1％；去离子水 60％-70％；其中，所述复合有机碱是具有化学式X-R-NH2的有机胺中的至少两种，X为H、NH2或OH，R为亚烷基；所述聚醚类活性剂为环氧乙烷与环氧乙烷的嵌段共聚物或无机共聚物中的至少一种；所述碎膜剂为长碳链的脂肪胺；所述铜缓蚀剂为苯并三氮唑及其衍生物的中的至少一种。