632.8纳米波长背入射式石英反射偏振分束光栅

摘要：

一种632.8纳米波段的背入射式石英反射偏振分束光栅，该光栅的周期为281～286纳米、刻蚀深度为0.800～0.810微米、光栅的占空比为1/2时，偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级反射衍射效率和TM偏振光的1级反射衍射效率分别高于99.09％和99.73％，特别是光栅周期为283纳米，刻蚀深度为0.805微米时，本发明的偏振分束光栅的消光比达到2.07×10⁴，TE偏振光0级反射衍射效率和TM偏振光1级反射衍射效率均接近于1；该偏振分束光栅在628～637纳米波长范围内消光比大于100，TE偏振光的0级反射衍射效率和TM偏振光的1级反射衍射效率分别高于99.13％和99.73％；在49.22°-51.02°角度带宽内消光比大于100，TE偏振光的0级反射衍射效率和TM偏振光的1级反射衍射效率分别高于99.99％和99.00％。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200610024951.8

申请日期：2006-03-22

公开/公告号：CN1821818

公开/公告日：2006-08-23

主分类号：G02B5/18(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

发明/设计人:周常河;王 博

主申请人地址:201800上海市800-211邮政信箱

专利代理机构:上海新天专利代理有限公司

代理人:张泽纯

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种632.8纳米波段的背入射式石英反射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为281～286纳米、刻蚀深度为0.800～0.810微米，光栅的占空比为1/2。