800纳米波段的石英透射偏振分束光栅

摘要：

一种用于800纳米波段的石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为598-622纳米、刻蚀深度为2.40-2.50微米，光栅的占空比为1/2。该偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级透射衍射效率和TM偏振光的1级透射衍射效率分别高于95.61％和96.41％。特别是光栅周期为609纳米，刻蚀深度为2.45微米时，本发明偏振分束光栅的消光比达到1.04×10⁴，TE偏振光0级透射衍射效率为97.23％，TM偏振光1级透射衍射效率为98.25％；本发明石英透射偏振分束光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，可以低成本大批量生产。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200610024491.9

申请日期：2006-03-08

公开/公告号：CN1815276

公开/公告日：2006-08-09

主分类号：G02B5/18(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

发明/设计人:周常河;王 博

主申请人地址:201800上海市800-211邮政信箱

专利代理机构:上海新天专利代理有限公司

代理人:张泽纯

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种800纳米波段的石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为598-622纳米、刻蚀深度为2.40-2.50微米，光栅的占空比为1/2。