交替相移光刻的三色调修整掩模

摘要：

一种光刻修整掩模(10)包括透明区域(30)、衰减相移区域(32)和不透明区域(34)。所述透明区域基本透射所接收的光。所述衰减相移区域衰减并移动所接收光的相位。经相移的衰减光图案化晶片的粗线区域。所述不透明区域基本防止所接收的光对晶片的细线区域进行曝光。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200580047551.2

申请日期：2005-12-01

公开/公告号：CN101443702

公开/公告日：2009-05-27

主分类号：G03F1/00(2006.01)I

申请/专利权人:德克萨斯仪器股份有限公司

发明/设计人:T·J·阿托恩

主申请人地址:美国德克萨斯州

专利代理机构:北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人:赵蓉民

国别省市代码:美国;US

权利要求：

1. 包含修整掩模的光刻设备，其包括：透明区域，其包括基本透明材料，并且其可用来基本透射所接收的光；衰减相移区域，其包括衰减相移材料，并且其可用来衰减所接收的光并移动所述所接收的光的相位；经相移的衰减光可用来图案化晶片的粗线区域；以及不透明区域，其包括不透明材料，并且其可用来基本防止所接收的光对所述晶片的细线区域进行曝光。