Levenson型相移掩模及其制造方法

摘要：

一种Levenson型相移掩模，具有形成在透明衬底上的遮光部分和开口。部分挖掘开口处的透明衬底或者在开口处的透明衬底上部分设置透明膜，以形成移相器开口和非移相器开口。移相器开口和非移相器开口重复存在于掩模中。移相器开口将透射光的相位反相。该Levenson型相移掩模具有从两侧插入在相邻的相同类型的开口之间的遮光部分图案。该遮光部分图案受到偏移修正，相对于通过掩模设计设定的预定设计线宽，所述偏移修正使遮光部分图案以预定量向其两侧扩展。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200580020602.2

申请日期：2005-04-19

公开/公告号：CN1973244

公开/公告日：2007-05-30

主分类号：G03F1/08(2006.01)I

申请/专利权人:凸版印刷株式会社

发明/设计人:小岛洋介;小西敏雄;田中启司;大泷雅央;佐佐木淳

主申请人地址:日本东京都

专利代理机构:永新专利商标代理有限公司

代理人:王 英

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

1、一种Levenson型相移掩模，包括形成在透明衬底上的遮光部分和开口，部分挖掘所述开口处的所述透明衬底或者在所述开口处的所述透明衬底上部分设置透明膜，以形成移相器开口和非移相器开口，所述移相器开口和所述非移相器开口重复存在于所述掩模中，所述移相器开口将透射光的相位反相，该Levenson型相移掩模的特征在于具有：从两侧插入在相邻的相同类型的开口之间的遮光部分图案，该遮光部分图案受到偏移修正，相对于通过掩模设计设定的预定设计线宽，所述偏移修正使所述遮光部分图案以预定量向其两侧扩展。