一种共用光罩布局方法及使用其的半导体元件制造方法

摘要：

本发明提供一种共享光罩布局方法及使用其的半导体元件制造方法。在光罩布局中，将多个电路设计布局于试产型光罩上，其中可能导入量产的主要电路设计集中占据试产型光罩的中央位置，而尚未打算导入量产的其余的电路设计则占据试产型光罩的边缘位置。接着，利用试产型光罩进行试产并验证。如果第一电路设计通过验证之后，遮蔽该些边缘位置即可得到第一电路设计专属的量产型光罩。如此即可利用量产型光罩进行第一电路设计的量产，并不需要额外再设计与制造另一套量产型光罩。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200510114963.5

申请日期：2005-11-16

公开/公告号：CN1967382

公开/公告日：2007-05-23

主分类号：G03F1/00(2006.01)

申请/专利权人:智原科技股份有限公司

发明/设计人:黄宏达;林郭琪

主申请人地址:中国台湾

专利代理机构:北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人:寿宁%张华辉

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

1、一种共用光罩布局方法，其特征在于其包括： 将复数个电路设计布局于一试产型光罩上，其中一第一电路设计占据 该试产型光罩的主要位置，而其余的电路设计则占据该试产型光罩的边缘 位置； 利用该试产型光罩进行试产并验证； 当该第一电路设计通过验证之后，改变该试产型光罩以得到一量产型 光罩，其中该量产型光罩只包括该第一电路设计；以及 利用该量产型光罩进行该第一电路设计的量产。