一种工业用透气强排水式纳米钨粉还原炉
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一种工业用透气强排水式纳米钨粉还原炉

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本发明提供了一种透气强排水式管式还原炉,包括推舟机构(1)、炉门(2)、废气点火或回收管(3)、透气舟皿(4)、纳米氧化钨粉(5)、舟皿透气底板(6)、炉管(7)、正压供H<sub>2</sub>多孔气垫(8)、加热板(9)、排水气流通道(10)、炉壳(11)、水冷套(12)、正压供气系统(13)、炉架(14)。炉管(7)的底部设有一个能够正压供H<sub>2</sub>气的多孔气垫(8)。舟皿结构上,采用了双层透气式舟皿,舟皿的底部架空,在舟皿透气底板(6)与多孔气垫(8)之间形成一个H<sub>2</sub>气均压室,H<sub>2</sub>气经均压缓冲后,再穿过舟皿的透气底板(6)。本发明的优点在于:物料损失少,实收率高。生产的纳米钨粉,平均粒径≤35.5nm,粒径分布宽度很窄45~50nm范围。设备结构简单,造价低,容易推广。

发明专利

CN200510086397.1

2005-09-12

CN1766510

2006-05-03

F27D7/02(2006.01)I

北京科技大学

吴成义;张丽英;林 涛;李会谦;汪 莉

100083北京市海淀区学院路30号

北京科大华谊专利代理事务所

刘月娥

北京;11

1、一种透气强排水式管式还原炉,包括推舟机构(1)、炉门(2)、废气点火或回收管(3)、透气舟皿(4)、纳米氧化钨粉(5)、舟皿透气底板(6)、炉管(7)、正压供H2多孔气垫(8)、加热板(9)、排水气流通道(10)、炉壳(11)、水冷套(12)、正压供气系统(13)、炉架(14);其特征在于:炉管(7)的底部设有一个能够正压供H2气的多孔气垫(8),多孔气垫(8)的表面按不同密度均匀的开有很多小孔,多孔气垫(8)内均匀的分成3~6路供气通道并与各小孔联通,在多孔气垫的右端与外部正压供气系统(13)连接,以保证炉内气垫的H2气压降按线性分布;正压透气式供气系统中,供H2气的方向是由炉管底部垂直向上并穿过每个底部有孔的舟皿;舟皿结构上,采用了双层透气式舟皿,舟皿的底部架空,在舟皿透气底板(6)与多孔气垫(8)之间形成一个H2气均压室,H2气经均压缓冲后,再穿过舟皿的透气底板(6);反应物料放在上层多孔舟底上,以保证多孔气垫喷出的H2气,在舟皿的第一第二层舟底之间再进行一次缓冲、均压过程;从正压供气多孔气垫喷出的H2气,通过控制H2气的炉内外压差ΔP,保证新鲜的H2气,能够连续不断地顺利的穿过料层。
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2006-05-03公开
2006-06-28实质审查的生效
2011-11-23专利权的终止
2007-12-26授权
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