X光照相系统

摘要：

本发明的目的是提供一种X光照相系统，在该系统中光场中的FOV与不考虑光源位移的X射线场中的FOV一致。X光照相系统包括：X射线管；准直仪，其形成从X射线管照射到X光照相对象的X射线束；以及光源，其经由准直仪将用于对准的光照射到X光照相对象上。X光照相系统还包括：存储器，其存储预先计算的光源的位移大小；以及控制单元，其基于光源的位置控制准直仪的开口，其中基于从存储器读取的位移大小来校正光源的位置，以使用于对准的光的FOV与目标值一致。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200510081848.2

申请日期：2005-06-29

公开/公告号：CN1888977

公开/公告日：2007-01-03

主分类号：G03B42/02(2006.01)I

申请/专利权人:GE医疗系统环球技术有限公司

发明/设计人:钱 磊

主申请人地址:美国威斯康星州

专利代理机构:中国专利代理(香港)有限公司

代理人:杨 凯%张志醒

国别省市代码:美国;US

权利要求：

权利要求书1.一种X光照相系统，具有：X射线管；准直仪，其形成从所述X射线管照射到X光照相对象的X射线束；以及光源，其经由所述准直仪将用于对准的光照射到所述X光照相对象上，所述X光照相系统包括：存储装置，存储预先计算的所述光源的位移大小；以及控制装置，基于所述光源的位置来控制所述准直仪的开口，其中基于从所述存储装置读取的所述位移大小来校正所述光源的位置，以使用于对准的光的FOV将与目标值一致。