1053纳米波长的高衍射效率石英透射光栅

摘要：

一种用于1053纳米波长的高衍射效率石英透射光栅，其特征在于该光栅的线密度为895～965线/毫米，光栅的深度为1.9～2.1微米，光栅的占空比为1/2，本发明光栅对1053纳米波长可同时使TE、TM偏振方向的+1级布拉格透射衍射效率高于85％，实现了对偏振模式的自由选择。特别是当光栅密度为920线/毫米，光栅深度为2微米时，TE和TM偏振模式的效率均大于94％。本发明矩形刻蚀石英光栅由微电子光刻工艺、深刻蚀工艺加工而成，可以低成本、大批量生产。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN200510026558.8

申请日期：2005-06-08

公开/公告号：CN1693929

公开/公告日：2005-11-09

主分类号：G02B5/18

申请/专利权人:中国科学院上海光学精密机械研究所

发明/设计人:周常河;张妍妍

主申请人地址:201800上海市800-211邮政信箱

专利代理机构:上海新天专利代理有限公司

代理人:张泽纯

国别省市代码:上海;31

权利要求：

1、一种1053纳米波长的高衍射效率石英透射光栅，是高密度矩形光栅，其特征在于该光栅的线密度为895～965线/毫米，光栅的深度为1.9～2.1微米，光栅的占空比为1/2。